Микроэлектроника: локализация оборудования для выпуска микросхем 65 нм

15 декабря 2025, 00:00

№51

НИИМЭ и НИИТМ (входят в ГК «Элемент», производящую электронную компонентную базу) разработали первые в России кластерные системы для процессов плазмохимического осаждения и травления кремниевых пластин.

Читайте Monocle.ru в

Эти установки являются частью производственных линий для выпуска интегральных микросхем по топологическим нормам 65 нм на пластинах 200 и 300 мм. Оборудование такого класса выпускают еще четыре компании в мире. Установки для уровня 65 нм на пластинах 300 мм обеспечат в том числе перспективную потребность отечественной микроэлектроники в отработке техпроцессов уровня 28 нм. Особую ценность разработке придает модульность платформы (мировой стандарт), так как она позволяет объединять от двух до восьми технологических установок с общей системой загрузки и, следовательно, гибко конфигурировать оборудование в зависимости от потребности и мощности производства. Это снижает себестоимость выпуска и повышает качество чипов. (Подробнее см. «Следующая остановка — “65-й нанометр”», стр. 25.)